بررسی شیوه دیآفراگم نانو پلاسمونیک متمرکز با توزیع میدان نانو الکتریکی در ساختار دیافراگم در هم پیچیده در یک فیلم آلومینیومی در طول موج کمتر از ۲ نانومتر

_ بخش نانو الکترونیک و (امواج پلاسمونیک)

بررسی شیوه دیآفراگم نانو پلاسمونیک متمرکز با توزیع میدان نانو الکتریکی در ساختار دیافراگم در هم پیچیده در یک فیلم آلومینیومی در طول موج کمتر از ۲ نانومتر

پژوهشگر و نویسنده:  دکتر  (  افشین رشید)

نکته: سیستم لیتوگرافی پلاسمونی با کاوشگر تماس به صورت  نانو دیآفراگم به شکل (درهم پیچیده) در یک صفحه فیلم فی که در بخش پایین (ابعاد کمتر از 10 نانو متر)  پوشانده شده است ،   تا یک پرتو لیزر دیودی با طول موج 405 نانومتر را بر روی دیآفراگم نانو متمرکز کند.

سیستم لیتوگرافی با استفاده از چنین بالا انتقال نانو دیافراگم وضوح زیر از حد پراش دست یافته اند، و توسعه طرح های جدید از نانولیتوگرافی پلاسمونیک را آغاز کرده اند برای دستیابی به وضوح نوری بالا ، فاصله بین دیافراگم و مقاومت در برابر عکس باید دقیقاً در محدوده چند ده نانو متر حفظ شود ، زیرا اتصال میدان نزدیک به فاصله بسیار حساس است. علاوه بر این دشواری ، یک اشکال اصلی لیتوگرافی نزدیک میدان ، کم بودن توان الگوسازی است.برای الگوسازی سریع مقیاس نانو ، ویژگی های مولکول به روش چاپ تماس ، فرآیندهای موازی با آرایه های دو بعدی کنسول یا آرایه های قلم پلیمری انعطاف پذیر برای نانو لیتوگرافی  پِلاسمونی (10 نانو متری) و ساخت اَدوات نانو اِلکترونیک انجام میگیرد.

فرآیند موازی با یک آرایه قلم فقط برای یک الگوی آرایه از همان ساختار در نظر گرفته شده بود ، زیرا هر قلم آرایه نمی تواند به طور جداگانه فعال شود. برای تولید الگوهای مقیاس نانو در مقیاس بزرگتر ، به یک آرایه پروب نیاز داریم که عناصر آن به طور جداگانه فعال شوند.استفاده از آرایه ای از پروبهای نانو دیافراگم در یک فرآیند موازی ، راهی امیدوارکننده برای تحقق لیتوگرافی نوری با توان بالا و نزدیک میدان است. با این حال ، در عمل پیاده سازی یک آرایه کاوشگر نوری که هزاران یا میلیون ها عنصر را برای ضبط میدان نزدیک نگه می دارد ، دشوار است ، زیرا فاصله بین هر کاوشگر و بستر الگو باید در محدوده دهها نانومتر به طور دقیق حفظ شود. هر کاوشگر نوری دارای یک لایه فیلم نازک جامد اضافی در زیر دیآفراگم است تا بتواند به صورت فیزیکی با بستر تماس گرفته و فاصله شکاف را در طول اسکن حفظ کند.

برای نانو لیتوگرافی پلاسمونی در حالت تماس ،  یک کاوشگر نوری که دارای یک دیآفراگم نانو با قابلیت انتقال بالا و پهن در یک فیلم فی است. برای محافظت از دیآفراگم در برابر آلودگی و سایش ، کاوشگر نوری با یک ماده دی الکتریک در سوراخ پر شده و با یک لایه محافظ دی الکتریک پوشانده شده است که ضخامت آن توسط فاصله شکاف بین کاوشگر و بستر تنظیم می شود.توزیع میدان الکتریکی را در ساختار دیافراگم در هم پیچیده در یک فیلم آلومینیومی در طول موج کمتر از ۲ نانومتر با یک پرتو برخورد قطبی محور مستقیم با استفاده از نانو لیتوگرافی پلاسمونی در حالت تماس ابعاد در ساخت اَدوات و اَفزاره های نانو الکترونیک محاسبه می شود  برای شبیه سازی فرآیند واقع گرایانه الگوبرداری بر روی مقاومت در برابر ساخت اَدوات و اَفزاره های نانو الکترونیک شدت موج صفحه برخورد رسانه دی الکتریک شیشه سیلیس است که در طول موج مورد شفاف و به راحتی با های پلاسما رسوب شیمیایی بخار  نانو ذرات پوشیده شده است.

نتیجه گیری :

سیستم لیتوگرافی پلاسمونی با کاوشگر تماس به صورت  نانو دیآفراگم به شکل (درهم پیچیده) در یک صفحه فیلم فی که در بخش پایین (ابعاد کمتر از 10 نانو متر)  پوشانده شده است ،   تا یک پرتو لیزر دیودی با طول موج 405 نانومتر را بر روی دیآفراگم نانو متمرکز کند.

پژوهشگر و نویسنده:  دکتر  (  افشین رشید)

دکترایِ  تخصصی نانو _ میکرو الکترونیک